Тысченко И.Е., Хмельницкий Р.А., Сарайкин В.В., Володин В.А., Попов В.П. Диффузия германия из захороненного слоя SiO2 и формирование фазы SiGe. Физика и техника полупроводников , 2021 , 56 (2). С. 192-198. ISSN 0015-3222
