Plasma-processing reactor for the production and treatment of nanoscale structures for nanoelectronics

Sorokin I.A., Kolodko D.V., Shustin E. G. Plasma-processing reactor for the production and treatment of nanoscale structures for nanoelectronics. In: Международная конф. Изаимодействие плазмы с поверхностью, 25-27 сентября 2019, Москва , МИФИ

Полный текст не доступен из этого репозитория.

Тип объекта:	Доклад на конференции или семинаре (Доклад)
Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!:	Сорокин И.А., Колодко Д.В. Шустин Е.Г.
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl):	216 лаб. технологических процессов твердотельной электроники
URI:	http://cplire.ru:8080/id/eprint/9489

Только для зарегистрированных пользователей

Изменить объект