МНОГОСЛОЙНОЕ ОСАЖДЕНИЕ КВАРЦЕВОГО И ФТОРСИЛИКАТНОГО СТЕКЛА НА КРЕМНИЕВЫЕ ПЛАСТИНЫ В ПЛАЗМЕ РЕЗОНАНСНОГО ЛОКАЛЬНОГО СВЧ РАЗРЯДА ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ

Шилов И.П., Кочмарев Л.Ю., Блинов Л.М., Герасименко А.П., Гуляев Ю.В., Долгов А.П. МНОГОСЛОЙНОЕ ОСАЖДЕНИЕ КВАРЦЕВОГО И ФТОРСИЛИКАТНОГО СТЕКЛА НА КРЕМНИЕВЫЕ ПЛАСТИНЫ В ПЛАЗМЕ РЕЗОНАНСНОГО ЛОКАЛЬНОГО СВЧ РАЗРЯДА ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ. ЖУРНАЛ РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ (электронный журнал) , 2018 (6). ISSN 1684-1719

Полный текст не доступен из этого репозитория.

Аннотация

Представлен эффективный метод газофазного многослойного осаждения в неизотермической плазме резонансного локального СВЧ-разряда пониженного давления кварцевого и фторсиликатного стекла на кремниевые пластины для формирования оптических структур волноводов и других волноводных элементов на их основе.

Тип объекта:	Статья
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl):	276 лаб. элементов систем лазерной связи
URI:	http://cplire.ru:8080/id/eprint/6729

Только для зарегистрированных пользователей

Изменить объект