Rodenbücher C., Hildebrandt E., Szot K., Sharath S. U., Kurian J., Komissinskiy P., Breuer U., Waser R., Alff L. Hafnium carbide formation in oxygen deficient hafnium oxide thin films. Applied Physics Letters , 2016 , 108 (25). р. 252903. ISSN 0003-6951
Полный текст не доступен из этого репозитория.
Официальный URL: https://doi.org/10.1063/1.4954714
| Тип объекта: | Статья |
|---|---|
| Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: | Комиссинский Ф.В. |
| Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): | 233 лаб. физических основ функциональной тонкопленочной оксидной электроники |
| URI: | http://cplire.ru:8080/id/eprint/5990 |
 |
Изменить объект |
