Formation of Carbon Layers by the Thermal Decomposition of Carbon Tetrachloride in a Reactor for MOCVD Epitaxy

Zvonkov B. N., Vikhrova O. V., Danilov Yu. A., Dorokhin M. V., Demina P. B., Drozdov M. N., Zdoroveyshchev A. V., Kriukov R. N., Nezhdanov A. V., Antonov I. N., Plankina S. M., Temiryazeva M. P. Formation of Carbon Layers by the Thermal Decomposition of Carbon Tetrachloride in a Reactor for MOCVD Epitaxy. Semiconductors , 2020 , 54 (8). С. 956-960. ISSN 1063-7826

Полный текст не доступен из этого репозитория.
Официальный URL: https://doi.org/10.1134/S106378262008028X

Аннотация

A new method for depositing carbon films by the thermal decomposition of carbon tetrachloride (CCl4) in a hydrogen flux in a reactor for metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD) at atmospheric pressure is developed. From the results obtained by Raman spectroscopy, it can be conceived that the carbon layers produced by this method are the disordered nanocrystalline graphite. It is shown that such carbon layers can be used in the technological cycle of the production of gallium-arsenide optoelectronic device structures (among them spin light-emitting diodes with a CoPt injector).

Тип объекта: Статья
Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: Звонков Б.Н., Вихрова О.В., Данилов Ю.А., Дорохин М.В., Демина П.Б., Дроздов М.Н., Здоровейщев А.В., Крюков Р.Н., Нежданов А.В., Антонов И.Н., Планкина С.М., Темирязева М.П.
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): 196 лаб. спин-волновых процессов в миллиметровом и субмиллиметровом диапазонах длин волн
URI: http://cplire.ru:8080/id/eprint/9653
Только для зарегистрированных пользователей
Изменить объект Изменить объект