Внешние и внутренние поля размагничивания как одна из основных фундаментальных причин низкой плотности критического тока двойниковых высокотемпературных сверхпроводников YBa2Cu3O7-x

Ростами Х. Р. Внешние и внутренние поля размагничивания как одна из основных фундаментальных причин низкой плотности критического тока двойниковых высокотемпературных сверхпроводников YBa2Cu3O7-x. Физика твёрдого тела , 2023 , 65 (9). С. 1496-1506. ISSN 0367-3294

Полный текст не доступен из этого репозитория.

Аннотация

С помощью осцилляционной дифференциальной методики локального приближения исследовано влияние внутренних локальных и внешних полей размагничивания на величину плотности критического тока Jc междвойниковых джозефсоновских слабых связей высокотемпературных сверхпроводящих (ВТСП) образцов YBa2Cu3O7-x. В режимах охлаждения в нулевом поле и охлаждения в нулевом поле с накоплением магнитного потока для образцов с разными Jc и размерами двойников d измерены поля размагничивания образцов HD. Определены значения: d; термодинамических первых критических магнитных полей двойников Hic1; полей размагничивания двойников HDtr; плотности внутридвойниковых эффективных критических токов Jceff; критических токов пиннинга Jcp и экранирующих мейснеровских критических токов Jcg. Показано, что при полях Hic1 двойники больших размеров скачкообразно "распадаются" на группу двойников меньших размеров с близкими размагничивающими факторами...

Тип объекта: Статья
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): 258 лаб. исследования СВЧ свойств ферромагнитных материалов
URI: http://cplire.ru:8080/id/eprint/9517
Только для зарегистрированных пользователей
Изменить объект Изменить объект