Sorokin I.A., Kolodko D.V., Shustin E. G. Plasma-processing reactor for the production and treatment of nanoscale structures for nanoelectronics. In: Международная конф. Изаимодействие плазмы с поверхностью, 25-27 сентября 2019, Москва , МИФИ
Полный текст не доступен из этого репозитория.Тип объекта: | Доклад на конференции или семинаре (Доклад) |
---|---|
Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: | Сорокин И.А., Колодко Д.В. Шустин Е.Г. |
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): | 216 лаб. технологических процессов твердотельной электроники |
URI: | http://cplire.ru:8080/id/eprint/9489 |
Изменить объект |