Plasma processing reactor for production and treatment of nanoscale structures for nanoelectronics

Sorokin I.A., Kolodko D.V., Shustin E. G. Plasma processing reactor for production and treatment of nanoscale structures for nanoelectronics. In: 14 Intern. conf.Gas discharge plasmas and their applications, 15-21 сентября 2019 г., г. Томск , Иститут сильноточной электроники РАН , р. 40.

Полный текст не доступен из этого репозитория. (Заказать копию)

Аннотация

Here represented development of a new plasma-chemical reactor based on beam- plasma discharge (BPD) for the production and defect-free treatment of nanoscale materials and structures in nanoelectronics.

Тип объекта:	Доклад на конференции или семинаре (Постер)
Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!:	И.А. Сорокин, В.В. Колодко, Е.Г. Шустин
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl):	216 лаб. технологических процессов твердотельной электроники
URI:	http://cplire.ru:8080/id/eprint/9221

Только для зарегистрированных пользователей

Изменить объект