Yurov V. Yu, Bolshakov A.P., Altakhov A.S., Fedorova I.A., Zavedeev E.V., Popovich A.F., Ralchenko V.G. Hydrogen microwave plasma etching of silicon dioxide at high temperatures with in situ low-coherence interferometry control. Vacuum , 2022 , 199. р. 110939. ISSN 0042207X
Полный текст не доступен из этого репозитория.
Официальный URL: https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2022.110939
| Тип объекта: | Статья |
|---|---|
| Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: | Попович А.Ф. |
| Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): | 218 лаб. химических методов технологии и анализа |
| URI: | http://cplire.ru:8080/id/eprint/9216 |
 |
Изменить объект |
