Белорусов Д.А., Гольдман Е.И., Чучева Г.В. Сверхтонкие (3.7 нм) слои окисла кремния с низкой концентрацией оборванных связей на контакте с полупроводником. In: II международная научно-техническая конференция «ОПТО-, МИКРО- И СВЧ- ЭЛЕКТРОНИКА–2022», 21–23 сентября 2022 года, Беларусь, г. Минск , р. 11.
|
Текст
Тезисы-Сверхтонкие (3.7 нм) слои окисла кремния с низкой концентрацией.pdf Загрузить (188kB) | Предварительный просмотр |
Официальный URL: https://oelt.basnet.by/конференции.
| Тип объекта: | Доклад на конференции или семинаре (Доклад) |
|---|---|
| Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): | 251 лаб. исследования физических явлений на поверхности и границах раздела твердых тел |
| URI: | http://cplire.ru:8080/id/eprint/9053 |
 |
Изменить объект |
