Luzanov V. A. Features of Indium Tin Oxide Film Deposition by Magnetron Sputtering. Journal of Communications Technology and Electronics , 2020 , 65 (3). С. 290-291. ISSN 1064-2269
Полный текст не доступен из этого репозитория.
Официальный URL: https://doi.org/10.1134/S1064226920030110
| Тип объекта: | Статья |
|---|---|
| Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: | Лузанов В.А. |
| Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): | 216 лаб. технологических процессов твердотельной электроники |
| URI: | http://cplire.ru:8080/id/eprint/8592 |
 |
Изменить объект |
