Charging effects of plasma impact on microconductor structures on an insulator in plasma processing technologies.

Tarakanov V.P., Shustin E.G. Charging effects of plasma impact on microconductor structures on an insulator in plasma processing technologies. Vacuum , 2015 , 113. С. 59-63. ISSN 0042207X

Полный текст не доступен из этого репозитория.

Тип объекта:	Статья
Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!:	Тараканов В.П., Шустин Е.Г.
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl):	168 лаб. разработки технологии СВЧ приборов
URI:	http://cplire.ru:8080/id/eprint/651

Только для зарегистрированных пользователей

Изменить объект