Shustin E. G. Plasma technologies for material processing in nanoelectronics: Problems and solutions. Journal of Communications Technology and Electronics , 2017 , 62 (5). С. 454-465. ISSN 1064-2269
Полный текст не доступен из этого репозитория.
Официальный URL: https://doi.org/10.1134/S106422691704012X
| Тип объекта: | Статья |
|---|---|
| Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: | Шустин |
| Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): | 216 лаб. технологических процессов твердотельной электроники |
| URI: | http://cplire.ru:8080/id/eprint/4146 |
 |
Изменить объект |
