ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ АМОРФНОЙ ФАЗЫ НА ПОВЕРХНОСТИ ФУНКЦИОНАЛЬНОГО СПЛАВА Ti2NiCu ПРИ СЕЛЕКТИВНОМ ТРАВЛЕНИИ ИОНАМИ ГАЛЛИЯ

Афонина В. С., Иржак А. В., Коледов В. В., Шавров В. Г., Дикан В. А. ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ АМОРФНОЙ ФАЗЫ НА ПОВЕРХНОСТИ ФУНКЦИОНАЛЬНОГО СПЛАВА Ti2NiCu ПРИ СЕЛЕКТИВНОМ ТРАВЛЕНИИ ИОНАМИ ГАЛЛИЯ. ЖУРНАЛ РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ, N12, 2015 , 2015 (12). С. 1-10. ISSN 1684-1719

[img]
Предварительный просмотр
Текст
2015_ЖУРНАЛ РАДИОЭЛЕКТРОНИКИ, N12, 2015.pdf

Загрузить (409kB) | Предварительный просмотр
Официальный URL: http://jre.cplire.ru/iso/contents.html

Аннотация

Экспериментально изучен процесс формирования аморфной фазы на поверхности быстрозакленного функционального сплава Ti2NiCu с ЭПФ при обработке в установке селективного ионного травления (ФИП). Исследовано воздействие фокусированного пучка ионов галлия на поверхность сплава в различных режимах и геометрии. При помощи метода просвечивающей электронной микроскопии (ПЭМ) показано, что ионный пучок формирует на поверхности кристаллического сплава аморфный слой с четкой границей. Отмечается, что аморфный слой может как оказывать негативное воздействие на качество субмикронных образцов сплава Ti2NiCu, которые находят применение в качестве активного материала в микросистемной технике, так и расширить функциональные возможности наноструктур на его основе.

Тип объекта: Статья
Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: В. С. Афонина, А. В. Иржак, В. В. Коледов, В. Г. Шавров, В. А. Дикан Д. А. Подгорный
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): 192 лаб. магнитных явлений в микроэлектронике
URI: http://cplire.ru:8080/id/eprint/2095
Только для зарегистрированных пользователей
Изменить объект Изменить объект