Применение плазмостойкого негативного электронного резиста из полиэфирсульфона при изготовлении чувствительных к примесям сверхпроводниковых структур

Ильин А.С., Кон И.А., Коваленко А.Г. Применение плазмостойкого негативного электронного резиста из полиэфирсульфона при изготовлении чувствительных к примесям сверхпроводниковых структур. Журнал радиоэлектроники , 2014 .

Полный текст не доступен из этого репозитория.
Тип объекта: Статья
Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): 235 темгр. сверхпроводниковых субмиллиметровых микроболометров на разогреве электронов
URI: http://cplire.ru:8080/id/eprint/2075
Только для зарегистрированных пользователей
Изменить объект Изменить объект