Chekushkin Artem M., Filippenko Lyudmila V., Kashin Vadim V., Fominskiy Mikhail Yu., Koshelets Valery P. Investigation of thin films for fabrication of Nb/AlN/NbN tunnel junctions and microstrip lines of NbTiN-SiO2-Al. Radioelectronics. Nanosystems. Information Technologies. , 2021 , 13 (4). С. 419-426. ISSN 22183000
|
Текст
19_2021_En.pdf Загрузить (2MB) | Предварительный просмотр |
Официальный URL: https://doi.org/10.17725/rensit.2021.13.419
| Тип объекта: | Статья |
|---|---|
| Авторы на русском. ОБЯЗАТЕЛЬНО ДЛЯ АНГЛОЯЗЫЧНЫХ ПУБЛИКАЦИЙ!: | Чекушкин А.М. Филиппенко Л.В. Кашин В.В. Фоминский М.Ю. Кошелец В.П. |
| Подразделения (можно выбрать несколько, удерживая Ctrl): | 234 лаб. сверхпроводниковых устройств для приема и обработки информации |
| URI: | http://cplire.ru:8080/id/eprint/10455 |
 |
Изменить объект |
